Вольфрамовый лист 0,2х75х180 мм ВРН в Владикавказе

Вольфрамовый лист используется в защите от ионизирующего излучения благодаря его высокой плотности и высокому атомному номеру. Эти свойства обеспечивают эффективное поглощение рентгеновского и гамма-излучения, применяясь в медицинском оборудовании и ядерной энергетике.

Толщина 0.05 мм оптимальна для фольги, используемой в качестве источника для вакуумного испарения. Тонкий лист обеспечивает быстрый и равномерный нагрев, эффективное испарение вольфрама для создания тонких пленок, а также минимальную термическую инерцию системы.

Использование листа ВР-20 значительно повышает надежность оборудования в условиях высоких температурных и механических нагрузок. Добавка рения улучшает пластичность, сопротивление ползучести и термическому удару, снижая риск преждевременного отказа компонентов.

Для работы в среде азотной кислоты с концентрацией 70% при 60°С вольфрамовый лист непригоден. Вольфрам подвержен интенсивной коррозии в горячих концентрированных окислительных кислотах, включая азотную, образуя вольфрамовую кислоту.

Лист ВД хорошо противостоит инертным и восстановительным высокотемпературным газовым потокам (аргон, водород) за счет химической инертности. Однако в окислительных средах или при наличии галогенов требуется защита или использование специальных покрытий из-за образования летучих соединений.

Лист ВР-20 превосходно сохраняет свои свойства в атмосфере аргона при экстремальных температурах до 2800°С. Аргон является инертным газом, предотвращая окисление и химические реакции, что позволяет материалу сохранять свою прочность и стабильность структуры.

Вольфрамовый лист встречается в экспериментальных установках, требующих сверхвысоких температур, таких как токамаки (для футеровки первой стенки), высокотемпературные вакуумные печи для синтеза материалов и установки для исследования плазмы.