Вольфрамовый лист 3х80х2000 мм В-МП в Владикавказе

Толщина 0.05 мм оптимальна для фольги, используемой в качестве источника для вакуумного испарения. Тонкий лист обеспечивает быстрый и равномерный нагрев, эффективное испарение вольфрама для создания тонких пленок, а также минимальную термическую инерцию системы.

Вольфрамовые листы с зеркальной поверхностью необходимы для применений, требующих максимального термического отражения или минимальной эмиссии. Это актуально для тепловых экранов вакуумных печей, оптических систем или подложек для высокоточного осаждения тонких пленок, где важна гладкость.

Лист ВА будет подвергаться коррозии в среде фтористоводородной кислоты при комнатной температуре. Вольфрам реагирует с фтористоводородной кислотой, особенно в присутствии окислителей, что приводит к образованию растворимых фторидов и деградации материала.

Лист ВР-20 демонстрирует высокую стойкость к длительному контакту с расплавленной медью. Вольфрам и сплавы с рением имеют крайне низкую растворимость в меди, что минимизирует эрозию и диффузию, обеспечивая стабильность материала в таких условиях.

Точная плотность вольфрамового листа ВД при 25°С составляет приблизительно 19.25 г/см³. Это одна из самых высоких плотностей среди всех металлов, что обеспечивает его высокую эффективность в экранировании излучения и как материал с большой массой на единицу объема.

Состав листа ВА, особенно его чистота и отсутствие примесей, влияют на устойчивость к нейтронному излучению. Чистый вольфрам обладает высоким сечением захвата нейтронов, а допированные марки ВА могут демонстрировать лучшую сопротивляемость радиационному охрупчиванию.

Скорость коррозии вольфрамового листа в паре воды при 150°С относительно низка. Однако происходит медленное окисление с образованием тонкой пленки оксида вольфрама и выделением водорода. При более высоких температурах процесс ускоряется.